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EPW

D0

Nouveau produit

Diamètre : 125 mm

Orientation : P<100>

Année de Fabrication :

Substrat

Epaisseur : 625+/-25 µm

Résistivité : 0.005-0.010 Ω.cm

Croissance : 

Dopant : 

EPI

Epaisseur : 2.58-3.02 µm

Dopant : 

Résistivité : 2.3-3.3 Ω.cm

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1 Article

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25,00 € HT

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Boîte de 25 plaquettes de Silicium 125 mm, qualité Semiconducteur

Date de production : 

Double emballage salle blanche PE + aluminium, ces wafers conviennent parfaitement pour les applications suivantes :

-tests, essais (laboratoires, universités),

-caractérisation d'équipement de dépôt, de handling,

-applications en optoélectronique 

Spécifications à la fabrication :

 

Caractéristiques

Diamètre : 125 mm

Orientation : P<100>

Année de Fabrication :

Substrat

Epaisseur : 625+/-25 µm

Résistivité : 0.005-0.010 Ω.cm

Croissance : 

Dopant : 

EPI

Epaisseur : 2.58-3.02 µm

Dopant : 

Résistivité : 2.3-3.3 Ω.cm