Mots-clés
Micropolish, groupe Rockwood (Optim Wafers Services)
Micropolish, groupe Rockwood (Optim Wafers Services)
Diamètre : 125mm Orientation : N<100> Année de Fabrication : 1993 Substrat Epaisseur : >500 µm Résistivité : Croissance : Dopant :
Diamètre : 125 mm Orientation : N<100> Année de Fabrication : 1993 Substrat Epaisseur : 500 µm Résistivité : Croissance : Dopant :
Diamètre : 125mm Orientation : P<100> Année de Fabrication : 1998 Substrat Epaisseur : >555 µm Résistivité : 10-25 Ω.cm Croissance : Dopant :
Diamètre : 200 mm Orientation : P<100> Année de Fabrication : Substrat Epaisseur : >660 µm Résistivité : >1 Ω.cm Croissance : Dopant :
Diamètre : 200mm Orientation : P<100> Année de Fabrication : 1997 Substrat Epaisseur : >625 µm Résistivité : 1-50 Ω.cm Croissance : Dopant :
Diamètre : 150mm Orientation : P<100> Année de Fabrication : 2001 Substrat Epaisseur : >500 µm Résistivité : >0,5 Ω.cm Croissance : Dopant :
Diamètre : 150 mm Orientation : P<100> Année de Fabrication : 2001 Substrat Epaisseur : 540-725 µm Résistivité : 0/0,5 Ω.cm Croissance : Dopant :
Diamètre : 200 mm Orientation : P<100> Année de Fabrication : 2001 Substrat Epaisseur : >610 µm Résistivité : >1 Ω.cm Croissance : Dopant :
Diamètre : 200mm Orientation : P<100> Année de Fabrication : 2001 Substrat Epaisseur : >640 µm Résistivité : >1 Ω.cm Croissance : Dopant :
Diamètre : 150 mm Orientation : P<100> Année de Fabrication : 2001 Substrat Epaisseur : 500-725 µm Résistivité : 0/0,5 Ω.cm Croissance : Dopant : P/N